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A1000PC

A1000PC是面向于工業(yè)化大規(guī)模生產的原子層沉積系統(tǒng),低溫鍍膜設計可以在各種3維基板上沉積高質量光學薄膜。

概述

A1000PC是面向于工業(yè)化大規(guī)模生產的原子層沉積系統(tǒng),低溫鍍膜設計可以在各種3維基板上沉積高質量光學薄膜。

在塑料基板上優(yōu)異的薄膜保形性和附著性

經國際認證機構認可的ALD系統(tǒng)設計

正常運行時間和產能

可兼容基板自動化裝載

適用于工業(yè)4.0的先進控制系統(tǒng)

相關參數

尺寸 寬3220 長4300 高2800mm(亦可定制化) 沉積薄膜 Al2O3,SiO2,TiO2 等離子體 ICP
前驅體源 4液態(tài) 2氣體 基板 平面或三維 裝載量 Φ335mm*40pcs
工藝溫度 <130℃ 薄膜均勻性 Al2O3,SiO2 <±2%, TiO2<±3% 裝載方式 半自動

特點及優(yōu)勢

產品特點

在塑料基板上優(yōu)異的薄膜保形性和附著性

經工業(yè)化檢驗認證的ALD系統(tǒng)設計

正常運行時間和產能

可兼容基板自動化裝載

適用于工業(yè)4.0的先進控制系統(tǒng)

真正的批量式低溫氧化硅沉積工藝

良好的批量式二氧化鈦均勻性

可對塑料鏡頭進行等離子前處理

高裝載量的批量式原子層沉積系統(tǒng)

業(yè)內常用的量產式設備

已驗證的高重復可靠性

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