ALD鍍膜技術用于手機攝像頭等鏡頭鍍膜，以減少反射導致的拍照鬼影炫光。同時光馳ALD鍍膜的環境測試效果非常好，在85溫度85濕度條件下1000小時老化測試后反射光譜仍然沒有變化。
ALD鍍膜技術用于手機攝像頭等鏡頭鍍膜，以減少反射導致的拍照鬼影炫光。同時光馳ALD鍍膜的環境測試效果非常好，在85溫度85濕度條件下1000小時老化測試后反射光譜仍然沒有變化。
ALD鍍膜技術對比PVD鍍膜技術，在3D基板表面，ALD可以做到更好的鍍膜均勻性，保形性。這是PVD鍍膜難以達到的。
(a) No bubbles or cracking (b) Negligible wavelength shift after HTHH test
Good adhesion and conformality shown by the cross section of ALD SiO2/TiO2 coating on substrate, sampling by FIB and SEM
ALD鍍膜技術用于手機攝像頭等鏡頭鍍膜，以減少反射導致的拍照鬼影炫光。同時光馳ALD鍍膜的環境測試效果非常好，在85溫度85濕度條件下1000小時老化測試后反射光譜仍然沒有變化。
滬公網安備31011302007876